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HMDS真空烤箱滿足研究機構(gòu)和高校材料開發(fā)方面的需求

更新時間:2023-10-07      點擊次數(shù):392
  HMDS真空烤箱是一種的熱處理設備,主要用于在真空環(huán)境下對材料進行燒結(jié)、退火、干燥等熱處理過程。HMDS真空烤箱是一種具有高真空度、溫度控制精度高、多功能操作、安全可靠和自動化控制等特點的熱處理設備。其廣泛應用于科研和工業(yè)領域,為材料的精確熱處理提供了重要的技術支持。

  以下是HMDS真空烤箱的特點:

  高真空度:能夠提供高度真空的操作環(huán)境,通??蛇_到10^-6 Pa的真空度,確保熱處理過程中的無氧或低氧條件,避免材料在熱處理過程中與氧氣接觸產(chǎn)生不良反應。

  安全可靠:真空烤箱具有完善的安全保護措施,如過溫保護、過流保護、漏電保護等,能夠保證設備和操作人員的安全。

  溫度控制精度高:真空烤箱配備先進的溫度控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和穩(wěn)定性。溫度控制精度通常在±1°C左右,可滿足對材料精確熱處理要求。

  多功能操作:具備多種熱處理功能,如燒結(jié)、退火、固溶處理、硬化、干燥等,可根據(jù)不同材料和工藝需求進行靈活的熱處理操作。

  自動化控制:采用自動化控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)對各項參數(shù)的精確控制和監(jiān)測,并支持數(shù)據(jù)記錄和遠程控制,提高工作效率和操作便利性。

  HMDS真空烤箱廣泛應用于半導體、光電、材料科學、航空航天等領域,用于對各種材料進行精確的熱處理,如晶體生長、薄膜制備、陶瓷燒結(jié)等。同時,它也可以滿足研究機構(gòu)和高校在材料研究和新材料開發(fā)方面的需求。
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